[양태훈기자] 반도체 장비업체 ASML은 23일 미국 주요 반도체 제조사 중 한 곳과 최소 15대의 극자외선(EUV) 노광장비 공급계약을 맺었다고 발표했다. 이번 계약은 반도체 관련 개발 활동 및 차세대 제조 공정의 시범 생산을 지원하고자 체결된 것이다.
ASML 측은 고객사가 새로 도입하는 EUV 장비를 미래 공정 기술을 위한 멀티플 프로세싱 단계에 사용할 예정이라고 설명했다. 또한 전체 수량 중 먼저 2대의 EUV 노광 시스템(모델명 NXE3350B)은 올 연말 이전에 고객사 생산라인에 도입, 기존 설치된 EUV 시스템과 함께 반도체 제조공정에 사용될 예정이다.
EUV 장비는 차세대 노광장비의 광원을 말한다. 기존 장비가 극자외선 스펙트럼에 속하는 광원을 사용했다면 EUV는 이보다 짧은 13.5나노미터(nm)의 파장을 가진 가시광선 및 엑스레이 사이의 스펙트럼에 위치해 더 미세한 회로 설계를 돕는다.
피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO)는 "이제 EUV 노광 시스템은 양산 과정 도입 단계에 들어섰다"며 "EUV의 장기적 계획과 생태계에 대한 준비도 순조롭게 진행되고 있다"고 말했다.
한편 ASML은 EUV 노광장비 공급계약을 맺은 반도체 업체가 어딘지는 밝히지 않았지만, 관련 업계에서는 재무력 및 기술력 등을 고려해 인텔이 해당 장비를 공급받을 것으로 예상했다.
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