[아이뉴스24 권서아 기자] SK하이닉스가 산업용 인공지능(AI) 스타트업 가우스랩스와 오는 22~26일 미국 새너제이에서 열리는 'SPIE AL 2026(SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026)'에 참가해 인공지능(AI) 기반 가상 계측 기술 연구 논문 2편을 발표한다고 19일 밝혔다.
SPIE AL 2026은 1955년에 미국에서 설립된 광학, 광자학 분야에서 가장 권위 있는 국제 학회인 국제광전자공학회(SPIE)가 주최하는 학술 컨퍼런스다.
![SPIE AL 2026 공식 웹사이트 [사진=SK하이닉스 뉴스룸]](https://image.inews24.com/v1/305d4f124e8fd1.jpg)
양사는 실제 생산라인에 적용 중인 AI 가상 계측 솔루션 '파놉테스 VM(Panoptes VM)' 데이터를 바탕으로 연구 성과를 정리했다.
23일 구두 발표에서는 '조기 이상 탐지 및 진단을 위한 가상 계측 기반 장비 간 성능 매칭 프레임워크(A Virtual Metrology-Driven Tool-to-Tool Matching: Toward Early Anomaly Detection and Diagnosis)' 논문이 소개된다.
'Panoptes VM'을 적용하면 기존에 확인이 어려웠던 장비 간 성능 차이를 식별할 수 있다는 점이 데이터로 입증됐다. 해당 기술은 장비 이상 조기 탐지와 원인 진단에도 활용될 수 있다.
25일 포스터 발표에서는 '반도체 포토 공정'에서 오버레이 예측 결과를 설명할 수 있도록 만든 신규 AI 프레임워크 '그레이스(GRACE: A Gradient-Based Model-Agnostic Explainability Framework for Photolithography Overlay Virtual Metrology)' 논문이 공개된다. SK하이닉스는 해당 기술을 생산 현장에 적용해 이상 원인 분석에 활용하고 있다.
![SPIE AL 2026 공식 웹사이트 [사진=SK하이닉스 뉴스룸]](https://image.inews24.com/v1/4f424b39c28b65.jpg)
SK하이닉스는 2022년부터 가우스랩스 솔루션을 제조 현장에 도입해 계측 효율과 공정 안정성을 높여 왔다.
김영한 가우스랩스 대표는 "제조 현장에서 축적된 데이터를 기반으로 AI 기술의 활용 가능성을 입증했다"며 "반도체 생산 전반에 적용 가능한 표준 솔루션으로 발전시키겠다"고 말했다.
/권서아 기자(seoahkwon@inews24.com)
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