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[삼성전자 실적] 작년 연간 시설투자 53.1조원 집행


4분기는 20.2조원 투자…첨단 기술 적용 확대·인프라 구축

[아이뉴스24 민혜정 기자] 삼성전자가 지난해 53조원, 4분기 20조원 규모의 시설투자를 단행했다.

삼성전자는 지난해 4분기 시설 투자는 20조2천억원이며 사업별로는 반도체(DS) 18조8천억원, 디스플레이(SDC)는 4천억원 수준이라고 31일 밝혔다.

연간으로는 53조1천억원이 집행됐고 DS 47조9천억원, SDC 2조5천억원이다.

삼성전자 평택캠퍼스 전경 [사진=삼성전자]
삼성전자 평택캠퍼스 전경 [사진=삼성전자]

메모리의 경우 평택 3, 4기 인프라와 미래 경쟁력 강화를 위한 극자외선(EUV) 등 첨단 기술 적용 확대, 차세대 연구 개발 인프라 확보를 위한 투자를 중심으로 이뤄졌다.

반도체 위탁생산(파운드리)는 평택 첨단 공정 생산 능력 확대와 미래 수요 대응을 위한 3나노 초기 생산 능력과 미국 테일러 공장 인프라 구축에 투자를 집중했다.

SDC는 중소형 플렉시블 생산 능력 확대와 인프라 투자에 집중했다

/민혜정 기자(hye555@inews24.com)






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